侵權投訴

EUV受限,ASML開綠燈,向中國展示7nmDUV光刻機

2020-11-05 17:06 ? 次閱讀

正在進行的第三屆進博會上,光刻機巨頭ASML也參展了,并且還在自己的展臺上曬出展示了DUV光刻機。

據悉,ASML之所以沒有展示新的EUV光刻機,主要是因為他們目前仍不能向中國出口EUV光刻機,而此次展示的DUV光刻機可生產7nm及以上制程芯片。

ASML此次也帶來了其整體光刻解決方案,包括先進控制能力的光刻機臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術,讓邊緣定位精度不斷提高。

在這之前,ASML CFO Roger Dassen在財報會議的視頻采訪中談到了與中芯國際等中國客戶的業務情況,其表示一些情況下,出口光刻機是不需要許可證的。

EUV受限,ASML開綠燈,向中國展示7nmDUV光刻機

Roger Dassen指出,ASML了解美國當局目前的規章制度及其解釋,當然也知道這些與特定的中國客戶密切相關,但如果廣泛的來理解其規章制度對ASML的總體含義(對于特定的中國客戶),則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統,且無需出口許可證。

美國僅僅是限制了美國不能給中國出口芯片、光刻機等,但并沒有限制其他國家對中國進口,荷蘭并不在美國的禁令范圍內。

目前的光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV光刻機,分為干分式與液浸式兩種。其中,液浸式于ASML手中誕生,其波長雖然有193nm,但等效為134nm,經過多重曝光后,液浸式光刻機也能夠達到7nm工藝。但是,每多一次曝光都會使得制造成本大大提升,而且良品率也難以控制。

EUV光刻機采用13.5nm波長的光源,是突破10nm芯片制程節點必不可少的工具。也就是說,就算DUV(深紫外線)光刻機能從尼康、佳能那里找到替代,但如果沒有ASML的EUV光刻機,芯片巨頭臺積電、三星、Intel的5nm產線就無法投產。
責編AJX

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